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グローバル半導体用酸化ハフニウム市場の成長分析:市場規模、浸透率、需要変動2025

半導体用酸化ハフニウム市場概要

半導体用酸化ハフニウム(HfO₂)は、その高い誘電率(高κ)と優れた絶縁特性により、現代の半導体製造において重要な材料である。先進的なマイクロエレクトロニクスや集積回路(IC)で広く使用され、主要用途において従来の二酸化ケイ素(SiO₂)に取って代わっている。

半導体用酸化ハフニウム

SiO₂の高誘電率材料への置換。HfO₂は優れた絶縁特性により、リーク電流の低減とトランジスタ性能の向上を実現し、先進MOSFETにおける業界標準のゲート誘電体材料となった。

AI、HPC、データセンターからの需要。人工知能(AI)、高性能コンピューティング(HPC)、クラウドベースのデータセンターの成長に伴い、より効率的で高速なトランジスタが求められており、次世代MOSFETにおけるHfO₂ベースのゲート絶縁体の採用を推進している。

5Gおよび先進通信技術。5Gおよび5G以降の通信システムにおける高周波・低消費電力トランジスタの需要増加が、MOSFETおよびFinFET向けHfO₂の使用を促進している。

QYResearchが発表した新たな市場調査レポート「半導体用酸化ハフニウム―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2025~2031」によると、世界の半導体用酸化ハフニウム市場規模は、予測期間中に年平均成長率(CAGR)6.8%で成長し、2031年までに0.5億米ドルに達すると予測されている。

図. 半導体用酸化ハフニウムの世界市場規模(百万米ドル)、2020-2031年

半導体用酸化ハフニウム

上記のデータはQYResearchのレポート「半導体用酸化ハフニウムの世界市場レポート 2024-2030」(2024年発行)に基づいています。

図:半導体用酸化ハフニウムの世界トップ7企業ランキングと市場シェア(ランキングは2024年の収益に基づき、随時更新)

半導体用酸化ハフニウム

上記のデータはQYResearchのレポート「半導体用酸化ハフニウムの世界市場レポート2024-2030」(2024年発行)に基づいています。

QYResearch主要企業調査センターによると、半導体用酸化ハフニウムの世界主要メーカーにはATI、Framatomeなどが含まれます。2024年時点で、世界トップ3社の収益シェアは約88.0%を占めました。

図:半導体用酸化ハフニウム、世界市場規模(製品セグメント別内訳)

半導体用酸化ハフニウム

QYResearchの調査に基づく、または調査を含む:半導体用酸化ハフニウムの世界市場レポート 2024-2030。

製品タイプ別では、純度≥99.9%が最大のセグメントであり、62.44%のシェアを占める。

図:半導体用酸化ハフニウム、世界市場規模、用途セグメント別内訳

半導体用酸化ハフニウム

QYResearchの調査に基づく、または調査を含む:半導体用酸化ハフニウムの世界市場レポート 2024-2030。

製品用途別では、ゲート誘電体材料が最大の用途であり、69.29%のシェアを占める。

図:半導体用酸化ハフニウム、地域別世界市場規模

半導体用酸化ハフニウム

QYResearchの調査に基づく、またはその調査を含む:半導体用酸化ハフニウムの世界市場レポート 2024-2030

QYResearchについて

QYResearch(QYリサーチ)は2007年の設立以来、グローバルビジネスの発展を支えるため、市場調査と分析を専門に行っています。当社の事業内容は、業界研究、F/S分析、IPO支援、カスタマイズ調査、競争分析など、幅広い分野が含まれています。現在、米国、日本、韓国、中国、ドイツ、インド、スイス、ポルトガルを拠点に、6万社以上の企業にサービスを提供しており、特に競合分析、産業調査、市場規模、カスタマイズ情報の分野で、日本のお客様から高い信頼を得ています。

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